多用途平均照射裝置Lamphouse（Multi-light）
具有對日本**航天開發(fā)事業(yè)團體(NASDA ：現(xiàn)今宇宙航空研究開發(fā)機構(gòu) JAXA )等，提供太陽能仿真器實績的USHIO集結(jié)光系統(tǒng)技術(shù)而開發(fā)的多用途均照射裝置。達(dá)到小型、高性能、及低價格之目的，可配備各種曝光裝置。
特征
獲得好評的USHIO超高壓UV燈
配備USHIO的超高壓UV燈，此燈即使紫外線波長范圍中，仍可有效活用三條光線(365nm、405nm、436nm)是具有長效穩(wěn)定之照射強度的高亮點光源。
減輕對工作片熱影響的冷鏡(Cold Mirror)
使用兩片穿透波長光，僅反射必要紫外線的冷鏡(Cold Mirror)，因此可以抑制被照射物的溫度上升。
配備高性能智能鏡片
配備高性能FLYEYE鏡頭，不降低光利用效率，可平均照射到照射面。
依據(jù)目的選擇之系統(tǒng)結(jié)構(gòu)
除了基本構(gòu)造組合＋附屬光學(xué)裝置＋快門控制裝置的基本型態(tài)之外，加上具有達(dá)到照射強度、波長、及照射口徑等光學(xué)條件的各種搭配組合,限寬廣的組合。
可選擇的波長范圍
可依需求選擇II型(365nm)、及IG型(365?405?436nm3種光線)2種光學(xué)系統(tǒng)。
可依需求實施光學(xué)設(shè)計與制作
有（250～25kW燈屋）（以高照度化、高平行度化、及波長選擇等提升光學(xué)性能」「省空間化等與依據(jù)規(guī)劃的光學(xué)系統(tǒng)）以DeeP UV燈等超高壓UV燈以外為光源的燈屋等，可配合顧客需求。
波長實例
大型Lamp House光學(xué)系統(tǒng)實例
250、500W系列
10、16、25kW系列
主要用途
作為使用鏡頭之均勻照射光源，或使作為使用光纖之點光源，回路圖案燒附、晶圓**曝光、及UV接著固化等，可應(yīng)用于各種用途。
半導(dǎo)體/半導(dǎo)體燒付、半導(dǎo)體光罩檢查、晶圓周圍曝光、晶圓**曝光、晶圓瑕疵檢查、及液晶TFT/CF燒付等。
精密機器/CD光擷取用鏡頭接著、磁頭接著、光纖涂裝、電子零件接著、水晶振蕩曝光、TAB曝光、及FPC曝光大面積投影曝光裝置等。
其他/液晶校正器、MEMS曝光、各種光學(xué)實驗等。
測試機的提案
有使用產(chǎn)品的實驗與測試機可供使用。測試后可以直接購買。
※部分使用目的與用途等無法配合需求，敬請見諒。
